在柔性功能薄膜生產(chǎn)方面，我們擁有國內(nèi)先進的卷對卷磁控濺射鍍膜產(chǎn)線，可以持續(xù)、穩(wěn)定生產(chǎn)高品質(zhì)功能薄膜。
磁控濺射鍍膜技術(shù)是在磁場約束及增強下的等離子體中的工作氣體離子 ( 如 Ar+) ，在靶陰極電場的加速下，轟擊陰極材料，使材料表面的原子或分子飛離靶面，穿越等離子體區(qū)以后在基片表面淀積、遷移，并最終形成薄膜。
卷對卷磁控濺射鍍膜技術(shù)是指通過磁控濺射鍍膜技術(shù)在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)。
磁控濺射鍍膜的沉積效率較高，在沉積大部分的金屬薄膜，尤其是沉積高熔點的金屬和氧化物薄膜時，如濺射鎢、鋁薄膜和反應(yīng)濺射TiO2、ZrO2薄膜，具有很高的沉積率，非常適合工業(yè)化生產(chǎn)。
磁控濺射鍍膜可濺鍍介質(zhì)膜（如 SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5 等），金屬和合金膜（如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、USU、TiAl等），透明導(dǎo)電膜（如ITO、AZO 等），以及符合多層光學(xué)薄膜（如AR減反膜、HR高反膜、AR+ITO高透導(dǎo)電膜、低輻射 Low-E膜和陽光控制膜等）。
磁控濺射鍍膜沒有熱源，因此也被稱作低溫鍍膜，非常適合在不耐高溫的柔性材料上鍍膜，目前卷對卷磁控濺射鍍膜已實現(xiàn)在多種柔性基材上的工業(yè)化鍍膜加工，如PET、PP、PI、PEN、PC 等聚合物薄膜材料，銅箔、鋁箔等金屬箔材，化纖布、無紡布、礦物纖維布等布類材料，以及紙類等其它柔性復(fù)合卷材。
磁控濺射法制備的薄膜具有致密性好、均勻性好、精度高、附著力強等特點。在濺射過程中，通過磁控裝置產(chǎn)生的磁場對濺射物質(zhì)進行定向和控制，使其在基材上形成的膜層致密、均勻，且厚度精確可調(diào)。此外，由于磁控濺射鍍膜工藝是在真空環(huán)境下進行，因此鍍膜層與基材之間的附著力較強，機械強度也得到了改善。
磁控濺射鍍膜是一種全干法物理鍍膜，在制備過程中不會產(chǎn)生傳統(tǒng)濕法鍍膜無法避免的廢液、廢渣、廢氣等污染物，對環(huán)境造成嚴重的污染。同時，磁控濺射鍍膜的能耗也較低，不僅使其更具成本效益，也有助于推進碳中和發(fā)展。
